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          比利時中國學者和留學生舉行第三屆學術年會

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          比利時中國學者和留學生舉行第三屆學術年會

          新華網布魯塞爾7月11日電(記者王曉郡)比利時中國學者和留學生10日在比利時那慕爾市舉辦第三屆學術年會。

          本次年會的主題是“科技,挑戰與機遇”,與會者分別介紹了各自在不同研究領域里取得的最新進展,涉及數學、化學、物理、生物等多個方面,為各學科之間的交叉合作研究提供可能。

          中國駐比利時大使廖力強在年會致詞中回顧了中國經濟近年來的迅猛發展和對世界經濟的貢獻,并介紹了今后5年中國科技發展目標。他稱贊旅比2000多名留學人員的學術水平和愛國熱情,對被推薦的16名旅比自費留學生獲頒2010年“國家優秀自費留學生獎學金”表示祝賀。

          中國學者和留學生那慕爾學術研討會2009年首次舉辦,現已成為一個學習及學術研究交流的平臺。本次年會的參加人員不僅有來自比利時部分大學的學者和留學生,還有來自英國和中國一些大學的教授以及歐美知名公司的高級研究人員等。

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